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非常適合FPD生產(chǎn)過程中的所有檢測(cè)，如濾色片光學(xué)特性檢測(cè)和玻璃基板膜厚檢測(cè)。
非接觸式光學(xué)深度計(jì) Emios Otsuka大冢
“一步操作”是一種追求用戶友好性的設(shè)備，無需任何繁重的工作，設(shè)置樣品即可立即看到結(jié)果。 該設(shè)備旨在縮短檢測(cè)過程，無需校準(zhǔn)曲線即可高精度、高分辨率地輕松找到優(yōu)良厚度。 由于使用了大冢電子開創(chuàng)的光學(xué)方法，因此可以在不接觸的情況下高精度測(cè)量不透明、粗糙表面和容易變形的樣品，同時(shí)節(jié)省空間。
超快光譜干涉式測(cè)厚儀Otsuka大冢
它以非接觸方式測(cè)量晶片等的研磨和拋光過程，具有超高速、實(shí)時(shí)和高精度的晶片和樹脂。
光譜橢偏儀 FE-5000 / 5000S Otsuka大冢
除了可實(shí)現(xiàn)高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外，我們還通過實(shí)施自動(dòng)可變測(cè)量機(jī)制支持所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)光子檢測(cè)器方法外，還通過為延遲板提供自動(dòng)安裝/拆卸機(jī)制來提高測(cè)量精度。
嵌入式膜厚監(jiān)控器Otsuk大冢蘇州售
實(shí)現(xiàn)具有波長(zhǎng)依賴性的高精度多層膜測(cè)量
膜厚監(jiān)測(cè)儀 FE-300 Otsuka大冢蘇州售
它是一種緊湊、低成本的薄膜厚度計(jì)，它通過簡(jiǎn)單的操作實(shí)現(xiàn)了高精度光學(xué)干涉測(cè)量的薄膜厚度測(cè)量。 我們采用一體式外殼，將必要的設(shè)備安裝在主體中，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。 通過以低廉的價(jià)格獲得**反射率，可以分析光學(xué)常數(shù)。
顯微光譜 OPTM Otsuka大冢蘇州售
它是一種通過使用顯微光譜測(cè)量微小區(qū)域內(nèi)的優(yōu)良反射率，實(shí)現(xiàn)高精度膜厚和光學(xué)常數(shù)分析的設(shè)備。 可以以非破壞性和非接觸的方式測(cè)量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層薄膜等鍍膜的厚度?？蛇M(jìn)行1秒/點(diǎn)測(cè)量時(shí)間的高速測(cè)量。它還配備了軟件，即使是初學(xué)者也可以輕松分析光學(xué)常數(shù)。
光譜輻射計(jì) HS-1000Otsuka大冢蘇州售
能夠從低亮度到高亮度進(jìn)行高速、高精度測(cè)量的光譜輻射亮度計(jì)。 大冢電子獨(dú)特的光譜光學(xué)設(shè)計(jì)和信號(hào)處理電路采用電子冷卻線陣傳感器，實(shí)現(xiàn)了在寬亮度范圍和波長(zhǎng)范圍內(nèi)的低噪聲和高精度測(cè)量。
多通道光譜儀 MCPD-9800 / 6800Otsuka大冢
支持紫外到近紅外區(qū)域的多功能多通道光譜檢測(cè)器。光譜光譜可以在*少 5 ms 內(nèi)測(cè)量。標(biāo)準(zhǔn)光纖可以在不指定樣品類型的情況下支持各種測(cè)量系統(tǒng)。除了顯微光譜、光源發(fā)射、透射/反射測(cè)量外，還可以通過結(jié)合軟件支持物體顏色評(píng)估、膜厚測(cè)量等。
蘇公網(wǎng)安備 32050502000409號(hào)
